隨著時代的發展，為了滿足更安全、更節能、降低噪聲、減少污染物排放的要求，在表面處理工藝上，真空電鍍已經成為環保新趨勢。與一般的電鍍不同，真空電鍍更加環保，同時，真空電鍍可以生產出普通電鍍無法達到的光澤度很好的黑色效果。

真空電鍍基本是一種物理沉積現象，既是在真空狀態下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。而在這電鍍的過程中，靶材是至關重要的存在，那么靶材在真空電鍍過程中的應用有哪些？今天小編就詳細為大家介紹一下。

通常情況下，靶材在真空電鍍中的應用具有以下幾個特點：

(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。

(2)再適當的設定條件下可將多元復雜的靶材制作出同一組成的薄膜。

(3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體，可以制作靶材物質與氣體分子的混合物或化合物。

(4)靶材輸入電流及濺射時間可以控制，容易得到高精度的膜厚。

(5)較其它制程利于生產大面積的均一薄膜。

(6)濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排。

(7)基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會繼續表面擴散而得到硬且致密的薄膜，同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。

(8)薄膜形成初期成核密度高，可生產10nm以下的極薄連續膜。

(9)靶材的壽命長，可長時間自動化連續生產。

(10)靶材可制作成各種形狀，配合機臺的特殊設計做更好的控制及有效率。

以上就是小編為大家總結的，靶材在真空電鍍中的應用的一些特點了，作為新興科技產物，靶材的出現是在表面處理工藝上一次大的進步。